《大话集成电路24》刻蚀技术：光刻之后，芯片生产的第二道技术坎

在集成电路的制造过程中，一共有三个同等重要的环节，分别是光刻、刻蚀和薄膜淀积。相比于光刻，刻蚀的知名度就要小了很多，但它也是一道技术含量很高的加工步骤，不如来一起了解一下吧。