佳能正式将纳米压印半导体制造技术（NIL）设备商业化

佳能最新发布了一种新的纳米压印半导体制造设备，该设备能够执行电路图案转移，这是制造最先进半导体所需的关键工具。虽然佳能主要以相机和镜头而闻名，但它也确实涉足了很多成像以外的其他行业，包括半导体制造。 如CNBC报道，随着这台被称为 FPA-1200NZ2C新机器的加入，使佳能可以挑战极紫外（EUV）光刻的市场领导者（荷兰公司ASML）。这款新的佳能机器能够制造相当于5纳米工艺的半导体，并且可以小至2纳米。