中国突破，EUV光刻机还远吗？哈工大已搞定13.5nm极紫外光源！

哈工大成功研发13.5nm极紫外光源，为国产EUV光刻机发展注入强心剂。面对国际巨头垄断，中国光刻机产业在技术研发和市场拓展上不断突破，虽与全球最前沿工艺仍有差距，但未来充满无限可能，值得期待。