应用材料公司取得在低温下的选择性硅锗外延的方法专利

<p>金融界 2025 年 1 月 8 日消息，国家知识产权局信息显示，应用材料公司取得一项名为“在低温下的选择性硅锗外延的方法”的专利，授权公告号 CN 110783171 B，申请日期为 2019 年 7 月。</p>