<p>金融界2024年12月23日消息,国家知识产权局信息显示,拉普拉斯(西安)科技有限责任公司取得一项名为“反应炉”的专利,授权公告号 CN 222182433 U,申请日期为2024年4月。</p><p>专利摘要显示,本公开涉及半导体或光伏材料加工技术领域,具体涉及一种反应炉,解决了传统的加工设备中,工艺进气孔较为集中,容易产生相互干扰,导致腔体内的气场分布不均匀的问题。本公开的实施例提供的一种反应炉,其进气气路之间的出气口的间距大于100mm,能够有效避免不同进气气路的出气口供应的气体相互干扰,有效提高了反应腔内气场的均匀性,有利于提高待加工材料上镀膜的质量。</p>