南通全昂申请电子晶片生产用刻蚀机械专利，提高电子晶片刻蚀精度

<p>金融界2024年12月12日消息，国家知识产权局信息显示，南通全昂等离子体科技有限公司申请一项名为“一种电子晶片生产用的刻蚀机械”的专利，公开号CN 119108318 A，申请日期为2024年11月。</p><p>专利摘要显示，本发明公开了一种电子晶片生产用的刻蚀机械，涉及到刻蚀技术领域，包括刻蚀箱、用于限位电子晶片的限位部件，所述限位部件上安装有连接部件，所述刻蚀箱上安装有与所述连接部件连接的驱动部件，所述驱动部件用于通过所述连接部件驱动所述限位部件运动，使所述限位部件带动电子晶片升降以及水平方向上进行往复运动。本发明通过设置驱动部件、连接部件，使电子晶片可以一字排开在刻蚀箱内，并进行水平方向上的往复运动，实现刻蚀箱内的刻蚀液可直接从电子晶片覆盖掩膜的一侧对电子晶片进行刻蚀，提高了电子晶片的刻蚀精度，保障了掩膜的覆盖保护作用，提高了晶圆片的加工质量。</p>