EUV光刻机最难制约技术突破，国产EUV光刻机多久会到来？

如今，在与美国的芯片竞争中，我国被卡在了EUV光刻机上。近日，上海微电子的“极紫外辐射发生装置及光刻设备”的发明专利，引起了广泛关注。这是EUV光源生成技术和利用其进行光刻的技术、工艺和设备。也是EUV光刻机技术中最难的技术，全球只有被ASML收购的美国Cymer公司一家掌握，也是ASML能垄断全球EUV光刻机市场的原因。在EUV光刻机三大技术难关中，EUV光源生成和光刻技术最难，门槛也最高。这次，上海微电子的技术突破，拼上了三块拼图中的最后一块，也是最难拼的一块。这将使国产EUV光刻机很快到来。还会颠覆全球EUV光刻机市场格局，使中美科技竞争的局面实现彻底扭转！