5nm芯片？佳能推出纳米压印光刻机，弯道超车ASML！维库芯视频

首先这些年来，光刻机的发展已经逐渐走到一个瓶颈期，芯片制程的进步速度，肉眼可见得变慢。反观发展至今才二十多年的纳米压印技术，怎是一个“快”字了得，纳米压印最早出现于1996年，是一种制造纳米级图案的方法，具有低成本、高产量和高分辨率的特点。纳米压印的原理也很简单，跟盖章一个道理，制造的过程统共就分两步，一步造“印章”，一步“盖章”。先在刻好电路的底板上喷涂印章所需的材料，等凝固后就是纳米压印的印章。然后再在晶片上喷涂一层纳米压印胶，直接盖章、等待凝固、脱模就可以了。