国产光刻胶自给率：EUV为0%，ArF为1%，KrF为5%，被日本卡了脖子

先明白光刻胶的作用是什么？首先将光刻胶涂在硅片上，形成一层薄膜，接着在复杂的曝光装置中，光线通过一个具有特定图案的掩模，投射到光刻胶上，曝光区域的光刻胶发生化学变化，在随后的化学显影过程中被去除，最后掩膜的图案就被转移到了光刻胶膜上。