我国光刻机发展怎么样了？

光刻机是半导体制造过程中的重要设备之一，主要用于在芯片上刻写出微小的线路和结构。自上世纪60年代问世以来，光刻技术一直处于快速发展阶段，目前已成为半导体工艺制造的核心技术之一。在我国经济快速发展的背景下，我国光刻机行业也在逐步壮大和发展。 在过去几年中，我国光刻机行业取得了长足的进步。首先，在技术研发方面，我国一些知名企业已经具备了自主研发的能力。以华大基因为例，该公司已完成了NAURA M3000D光刻机的自主研发和生产，成为全球仅有的三家生产这款光刻机的企业之一。其次，在销售市场方面，我国的光刻机品牌也逐渐扩大了海外市场的份额。以中微半导体为例，今年以来，该公司成功落地海外多项大单，预计全年出货量将达到450台以上，成为了国内外龙头企业之一。再次，在政策环境方面，我国政府也开始加大对光刻机行业的支持力度，定期出台了一系列优惠政策，为行业发展提供了强有力的支持。