中国需要多久才可以造出光刻机

光刻机（Mask Aligner) 又名：掩模对准曝光机，曝光系统，光刻系统等，是制造芯片的核心装备。它采用类似照片冲印的技术，把掩膜版上的精细图形通过光线的曝光印制到硅片上，2020年伊始，我国将发力在光刻机等高科技研发上，这不仅仅是华为一家企业的使命，也是整个中国高科技产业的使命。