华为解除困境了？中科院的5nm光刻技术，并不是你想的那样

中科院官网刊登了一篇文章，介绍了苏州纳米所在超高精度激光光刻技术研究中获得巨大进展，团队开发了一种新型三层堆叠薄膜结构，可以实现5纳米的特征线宽。