5nm光刻机重大突破？中科院删文！“芯片”围城需要理性面对！

最近大家肯定都在网上看到了中科院苏州纳米所5nm激光光刻研究获进展的消息，内容是中科院纳米所在权威杂志发表了一种新型5nm超高精度激光光刻加工方法，很多自媒体只是看到了文章中的光刻，5nm这些字眼就直接夸大其词的转发，由于媒体的舆论导致中科院倍感压力，从官网删除了这项内容！很多人都说中科院的这项技术可以让我们以后制造芯片不用光刻机但是我想告诉大家不可能：中科院本次公布的加工效率为一小时525个纳米狭缝电极但是一个芯片有几百亿个，这么一说大家就懂了吧？