11月5日，第九届中国国际进口博览会在上海国家会展中心正式开幕。上海微电子（SMEE）携新一代前道干式光刻机通用技术平台

11月5日，第九届中国国际进口博览会在上海国家会展中心正式开幕。上海微电子（SMEE）携新一代前道干式光刻机通用技术平台模型亮相展会，展示我国前道光刻装备自主化的阶段性成果。 本次展出的是干式光刻机整机技术平台模型，重点展示光学系统、精密工件台、对准检测、运动控制等核心子系统集成方案。干式光刻路线不采用浸没液体，技术路线和SMEE已在推进的浸没式机型互为补充，覆盖芯片前道制造环节。 作为国内前道光刻装备核心研发主体，SMEE持续并行推进多条光刻技术路线研发。本次平台亮相，标志国产干式前道光刻机方案论证、子系统研发取得阶段性进展，进一步完善国内光刻装备技术储备。 据现场信息，本次展品为技术展示模型，暂未公布定型机型、上机验证以及交付时间表。行业认为，干式前道光刻机落地后，可服务成熟制程、特色工艺产线，助力国内晶圆产线的设备自主可控。 SMEE成立于2002年，是国内唯一具备前道干式光刻机稳定量产交付能力的制造商，也是我国前道光刻装备自主供给体系的核心支撑主体，业务覆盖核心光刻装备的设计研发、生产制造、市场销售与全流程技术服务。 #SMEE #上海微电子 #前道干式光刻机 #国产光刻机 #进博会