我之前没想到，要找一面光滑镜子的瑕疵，居然得用上原子才能测量出来。 EUV光刻系统会用到精度极高的镜子，用来聚焦光线，

我之前没想到，要找一面光滑镜子的瑕疵，居然得用上原子才能测量出来。 EUV光刻系统会用到精度极高的镜子，用来聚焦光线，在硅晶圆上打印复杂的电路图案，这正是先进微芯片的核心基础。 它的精度到底有多夸张？它的镜子表面和预期形状的偏差，不到0.2纳米，也就是0.0000000002米。 说起来就是极小的瑕疵，背后却是难度极高的巨大工程挑战。 #EUV光刻#半导体...#半导体...