用生活理解科学,拿身边现象看懂硬核原理。很多人误以为 DUV 与 EUV 的差距是光线粗细,这个认知其实存在误区。DUV 可以刻出很细的单根线条,但受衍射限制,无法缩小线路之间的间距,只能依靠多重曝光技术,实现 14nm、7nm 芯片的制造。用木梳类比讲清光刻波长的底层逻辑,多重曝光原理后续单独拆解。 #DUV #EUV #光刻机 #光刻波长 #多重曝光 #14 纳米 #7 纳米 #芯片制造 #衍射 #半导体科普 #晶圆 #芯片工艺 #半导体设备 #国产替代 #光刻原理