8月29日讯，近日，华中科技大学教授、武汉太紫微光电科技公司（简称“太紫微”）创始人朱明强团队，联合武汉纺织大学、九峰山

8月29日讯，近日，华中科技大学教授、武汉太紫微光电科技公司（简称“太紫微”）创始人朱明强团队，联合武汉纺织大学、九峰山实验室、武汉新芯集成电路制造有限公司，研发出一种基于单一均聚物PDHF的新型光刻胶体系，相关成果发表于国际学术期刊《Nature Communications》。 传统光刻胶通常只能处理一种图案模式（正性或负性），而该团队研发的PDHF新型光刻胶，通过控制曝光剂量，可在同一张“底片”上实现负性、正性以及边缘保留型三种图案化模式。这一特性有望帮助芯片制造厂商简化材料管理流程、缩短工艺验证周期，从而有效释放产能、降低生产成本。该研究已获得国家自然科学基金、湖北省自然科学基金等多个项目支持，有望为高端半导体芯片光刻胶的国产化替代提供一条新的技术路径。 太紫微成立于2024年5月，由华中科技大学武汉光电国家研究中心团队创立。公司主要聚焦于高端光刻胶、光刻材料及电子级化学品的研发与生产，是国内半导体光刻胶领域的新兴力量。（来源：湖北工信） #中国光谷 #太紫微 #高端光刻胶 #PDHF光刻胶