【百年化学 中国篇】

#在合集看百态 #化学 #电子级氢氟酸 #光刻胶 #两用物项 电子级氢氟酸制备技术（中国） 2018 年中国突破电子级氢氟酸（UPSS 级）技术：以萤石（CaF₂）为原料，与硫酸反应生成工业氢氟酸，再通过精馏、离子交换、亚沸蒸馏提纯，纯度达 99.99999%，金属杂质含量低于 10ppb，2020 年用于芯片蚀刻，替代进口产品。 原理：萤石与硫酸反应（CaF₂+H₂SO₄=2HF↑+CaSO₄）生成氢氟酸；精馏去除低沸点杂质，离子交换去除金属离子，亚沸蒸馏避免溶液沸腾导致的杂质夹带，最终得到高纯度氢氟酸，用于蚀刻芯片表面的二氧化硅层。